| 发明名称 |
SUBSTRATE TREATMENT METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JP2003109995(A) |
申请公布日期 |
2003.04.11 |
| 申请号 |
JP20010299287 |
申请日期 |
2001.09.28 |
| 申请人 |
HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC |
发明人 |
ISHIBASHI HIROSHI;KATAOKA NORIHIKO;TERANISHI ISAO |
| 分类号 |
B65G49/00;B65G49/06;H01L21/02;H01L21/677;H01L21/68;(IPC1-7):H01L21/68 |
主分类号 |
B65G49/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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