发明名称 METHOD FOR DEPOSITION OF TRANSPARENT SILVER-CONTAINING METAL LAYERS
摘要 <p>In zahlreichen technischen Anwendungen werden Schichten mit hoher optischer Transparenz und guter elektrischer Leitfähigkeit benötigt, wobei oftmals möglichst dünne Schichten mit diesen Eigenschaften angestrebt werden. Häufig kommen zur Herstellung derartiger Schichten Verfahren der Magnetron-Zerstäubung zur Anwendung. Durch den Einsatz einer Entladungsspannung oberhalb von 700 V lässt sich die Schichtdicke silberhaltiger Schichten bei gleichem Flächenwiderstand und verbesserter optischer Transparenz deutlich verringern. Herstellung von Flachbildschirmen, Dünnschichtsolarzellen, Elektrolumineszenzsystemen etc.</p>
申请公布号 WO2003029511(A1) 申请公布日期 2003.04.10
申请号 EP2002009798 申请日期 2002.09.03
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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