Markenanordnung, Wafer mit mindestens einer Markenanordnung und ein Verfahren zur Herstellung mindestens einer Markenanordnung

摘要

Die Erfindung betrifft eine Markenanordnung zur Ausrichtung und/oder Bestimmung der relativen Lage eines Substrates (20) und/oder von Schichten auf dem Substrat (20) bei einer lithographischen Belichtung, insbesondere bei einem Wafer bei der Herstellung von DRAMs, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Teil einer Marke (1, 2) über einem strukturierten Hintergrund (11) zur Erhöhung eines Kontrastunterschiedes zwischen Marke (1, 2) und dem Substrat (20) angeordnet ist. Die Erfindung betrifft auch einen Wafer mit einer solchen Markenanordnung und ein Verfahren zur Herstellung der Markenanordnung. Damit wird eine effiziente und einfache Ausrichtung von Schichten und/oder des Substrates ermöglicht.