| 发明名称 | 沉积薄膜及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种氧化铝沉积薄膜，它包括一层基材薄膜和一层氧化铝沉积层，所述沉积层对于基材薄膜在湿润状态下的剥离强度至少为0.3牛/15毫米，其氧气渗透率不超过40毫升/米<SUP>2</SUP>·天·兆帕以及水蒸汽渗透率不超过4.0克/米<SUP>2</SUP>·天。氧化铝沉积薄膜(1)的荧光X射线强度(A)(铝Kα射线)与没有通入氧气得到的铝沉积薄膜(2)的荧光X射线强度(B)(铝Kα射线)之比(A/B)为(A/B)≤0.85。 | ||
| 申请公布号 | CN1408896A | 申请公布日期 | 2003.04.09 |
| 申请号 | CN02143935.4 | 申请日期 | 2002.09.26 |
| 申请人 | 东赛璐株式会社 | 发明人 | 三品纪年;野本晃;冈健司;外山达也 |
| 分类号 | C23C14/08;C23C16/40 | 主分类号 | C23C14/08 |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所 | 代理人 | 朱黎明 |
| 主权项 | 1.一种氧化铝沉积薄膜，它包括一层基材薄膜和一层氧化铝沉积层，所述沉积层与所述基材薄膜在湿润状态下的剥离强度至少为0.3牛/15毫米。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||