Verstärkung von Resiststrukturen aus fluorierten Resistpolymeren durch strukturelles Aufwachsen der Strukturen mittels gezieltem chemischem Anbinden von fluorierten Oligomeren

摘要

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Nachverstärkung von Resiststrukturen. Dabei wird zunächst ein fluorhaltiger Resist auf ein Substrat aufgetragen. Nach Belichtung und Entwicklung des Resists erfolgt eine chemische Verstärkung der Resiststrukturen durch Anbindung eines Verstärkungsagens. Erfindungsgemäß wird ein fluorhaltiges Verstärkungsagens verwendet, wobei durch die bessere Mischbarkeit der Molekülketten eine verbesserte Reaktion zwischen Polymer und Verstärkungsagens erreicht wird.