| 发明名称 | 单元件技术的电解槽用电化学池 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于隔膜电解法的单元件技术的电解槽用电化学池。所述池组成如下：至少两个半壳体(8，10)，该半壳体围绕其间设置有隔膜(5)的阳极电解液室(16)和阴极室(22)；位于阳极电解液室(16)中的阳极(6)，而在阴极室(22)中设置有耗氧阴极(4)，其中具有以一个在另一个之上的方式排布的许多压力补偿气袋(15)；阴极电解液间隙(14)和任选地后室(19)，其特征在于，导电支撑元件(7)设置在阳极电解液室(16)中，而支撑元件(3，2，1)的同样互相相对的位置设置在阴极室(22)中。 | ||
| 申请公布号 | CN1408032A | 申请公布日期 | 2003.04.02 |
| 申请号 | CN00816662.5 | 申请日期 | 2000.11.20 |
| 申请人 | 拜尔公司 | 发明人 | F·格斯特曼 |
| 分类号 | C25B9/00 | 主分类号 | C25B9/00 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王景朝;谭明胜 |
| 主权项 | 1、一种用于隔膜电解法的电化学池，其组成如下：至少两个半壳体(8，10)，该半壳体围绕其间设置有隔膜(5)的阳极电解液室(16)和阴极室(22)；位于阳极电解液室(16)中的阳极(6)，而在阴极室(22)中设置有耗氧阴极(4)，其中具有以一个在另一个之上的方式排布的许多压力补偿气袋(15)；阴极电解液间隙(14)和任选地后室(19)，其特征在于，导电支撑元件(7)设置在阳极电解液室(16)中，而支撑元件(3，2，1)的同样互相相对的位置设置在阴极室(22)中。 | ||
| 地址 | 德国莱沃库森 | ||