发明名称 |
腐蚀抑制组合物 |
摘要 |
本发明公开了一种新的引入侧杂环基团的聚合物腐蚀抑制组合物,它是惊人有效的铜腐蚀抑制剂。该聚合物在金属元件上形成对含水体系的保护隔绝层并在宽pH范围内在金属表面上保持有效。另外,该聚合物对氧化杀虫剂有耐性,且在重复或长期暴露于腐蚀剂时基本上不透过。 |
申请公布号 |
CN1406988A |
申请公布日期 |
2003.04.02 |
申请号 |
CN02141604.4 |
申请日期 |
2002.09.02 |
申请人 |
罗姆和哈斯公司 |
发明人 |
T·高什;W·M·汉恩;B·魏恩斯坦恩 |
分类号 |
C08F20/00;C08F22/36;C09D133/00 |
主分类号 |
C08F20/00 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
邓毅 |
主权项 |
1.一种聚合物,包含至少一种选自具有结构式Ia的重复单元:结构式Ia<img file="A0214160400021.GIF" wi="382" he="589" />其中n是0或1;R和R<sub>1</sub>独立地选自氢,甲基,和C<sub>2</sub>-C<sub>4</sub>烷基;R<sub>2</sub>选自C<sub>1</sub>-C<sub>8</sub>支化和直链烷基基团,C<sub>1</sub>-C<sub>8</sub>支化和直链链烯基基团,C<sub>3</sub>-C<sub>8</sub>环烷基基团,C<sub>6</sub>-C<sub>10</sub>芳族基团,C<sub>2</sub>-C<sub>4</sub>氧化烯基团和聚(C<sub>2</sub>-C<sub>4</sub>氧化烯)<sub>m</sub>,其中m=2-20;侧杂环包括具有一个或多个选自N,O,S和其组合的杂原子的不饱和或芳族杂环,所述侧杂环通过作为杂环一部分的杂原子或杂环的碳原子化学键接到R<sub>2</sub>上;R<sub>3</sub>选自氢,甲基,乙基,C<sub>3</sub>-C<sub>18</sub>支化和直链烷基和链烯基基团;和R<sub>4</sub>选自H,CH<sub>3</sub>,C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>,C<sub>6</sub>H<sub>5</sub>和C<sub>3</sub>-C<sub>18</sub>支化和直链烷基和C<sub>3</sub>-C<sub>18</sub>链烯基基团。 |
地址 |
美国宾夕法尼亚 |