SELECTED ADJUSTMENT OF DROPWISE CONDENSATION ON ION IMPLANTED SURFACES,申请号EP19980952691-传众专利搜索

发明名称	SELECTED ADJUSTMENT OF DROPWISE CONDENSATION ON ION IMPLANTED SURFACES
摘要
申请公布号	EP1021585(B1)	申请公布日期	2003.04.02
申请号	EP19980952691	申请日期	1998.10.02
申请人	ESYTEC ENERGIE- UND SYSTEMTECHNIK GMBH	发明人	LEIPERTZ, ALFRED;CHOI, KYONG-HEE
分类号	C23C14/48;F28F13/04;F28F13/18;(IPC1-7):C23C14/48	主分类号	C23C14/48
代理机构		代理人
主权项
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