发明名称 消除密集图案与疏松图案之间偏差的方法与装置
摘要 一种消除密集图案与疏松图案之间偏差的方法。在光罩与像之间加上一个衰减器,使通过光罩上疏松图案的光线强度可以减弱,使成像的光线强度与通过光罩上密集图案的光线强度相同,以此消除曝光时疏密图案之间因为光强度差异产生的的偏差。其中衰减器设计系在光罩与像之间,包括两个区域,一个为透光区域,另一个为衰减区域,利用在衰减器上镀上一层可使穿透光强度减弱的材料,藉以降低低频区域的响应强度,使高频区域与低频区域的响应强度相同。
申请公布号 TW526535 申请公布日期 2003.04.01
申请号 TW089100740 申请日期 2000.01.18
申请人 茂德科技股份有限公司;台湾茂矽电子股份有限公司 新竹科学工业园区力行路十九号;西门子股份公司 德国 发明人 叶晋德
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路二段一○○号七楼之一
主权项 1.一种消除密集图案与疏松图案之间偏差的方法,包括:提供一衰减器,该衰减器系为一滤波器配置于一光罩与一成像之间,使通过该衰减器之光线强度可以减弱。2.如申请专利范围第1项所述之消除密集图案与疏松图案之间偏差的方法,其中该滤波器包括一透光区域与一衰减区域,该衰减区域系利用于镀上一可部分吸收光线之材质。3.如申请专利范围第2项所述之消除密集图案与疏松图案之间偏差的方法,其中该可部分吸收光线材质包括银。4.一种消除密集图案与疏松图案之间偏差的装置,包括:一衰减器,该衰减器配置于一光罩与一成像之间,且衰减器系为一包括一透光区域与一衰减区域之滤波器。5.如申请专利范围第4项所述之消除密集图案与疏松图案之间偏差的装置,其中该衰减区域系在该滤波器之中心镀上一可部分吸收光线的材质。6.如申请专利范围第5项所述之消除密集图案与疏松图案之间偏差的装置,其中该可部分吸收光线的材质包括银。图式简单说明:第1A图与第1B图,其所绘示为一些图案转移时的关键尺寸偏差现象;第2A至2D图其所绘示的为光学邻近校正法之示意图;第3图为密集图案与疏松图案的简示图;第4图绘示为疏密图案之间的频率响应的关系图;第5图为依照本发明一较佳实施例的一种衰减器的设计;第6图为依照本发明一较佳实施例,使用衰减器调整频率响应强度后,疏密图案之间的频率响应与强度的关系图;以及第7图绘示为依照本发明一较佳实施例,衰减器、光罩与像之间的关系。
地址 新竹科学工业园区力行路十九号三楼