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发明名称 Resistentwicklungsverfahren
摘要
申请公布号 DE69811430(D1) 申请公布日期 2003.03.27
申请号 DE19986011430 申请日期 1998.06.02
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 LU, ZHIJIAN
分类号 G03F7/30;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/30 主分类号 G03F7/30
代理机构 代理人
主权项
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