发明名称 光学记录介质
摘要 一种WORM型光学记录介质,在具有预沟槽和预凹坑的透明基底上直接或通过其它层包含含有吸收激光束的有机颜料的记录层,以及金属反射层,其特征在于有机颜料对再生波长λ<SUB>2</SUB>的折射率nk至少是2.2、基底上预沟槽和预凹坑的深度至少是λ<SUB>2</SUB>/4(相对于再生波长λ<SUB>2</SUB>)并且满足如下的关系:0.25r≤wg≤0.38r、0.25≤wp/wg≤0.75、θ<SUB>gr</SUB>≤θ<SUB>pr</SUB>、θ<SUB>pr</SUB>≤θ<SUB>pt</SUB>,条件是由λ<SUB>1</SUB>/NA表示的记录用激光束的直径为r(λ<SUB>1</SUB>是记录波长[μm],NA是物镜的数值孔径)、预沟槽半宽度为wg[μm]、基底径向上的截面倾角为θ<SUB>gr</SUB>、基底径向上的预凹坑半宽度为wp[μm]、基底径向上的截面倾角为θ<SUB>pr</SUB>以及切线上的截面倾角为θ<SUB>pt</SUB>。
申请公布号 CN1406377A 申请公布日期 2003.03.26
申请号 CN01805554.0 申请日期 2001.10.22
申请人 三井化学株式会社 发明人 小出哲裕;稻富裕司;小池正士
分类号 G11B7/24 主分类号 G11B7/24
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 赵苏林;郭广迅
主权项 1.一种可记录光学记录介质,在具有预沟槽和预凹坑的透明支持基底上直接或通过另一层而包含含有可吸收激光束的有机染料的记录层以及金属反射层,其中有机染料对再现波长λ2的折射率nk为2.2或更大;相对于再现波长λ2,基底上预凹坑和预沟槽的深度大于λ2/4;并且满足如下的方程式:0.25r≤wg≤0.38r;0.25≤wp/wg≤0.75;θgr≤θpr;以及θpr≤θpt 其中r是由λ1/NA表示的记录用激光束直径,其中λ1是记录波长[μm]而NA是物镜的数值孔径;wg[μm]和θgr分别是预沟槽在基底径向上的半值宽度和截面倾角;而wp[μm]、θpr和θpt分别是预凹坑在基底径向上的半值宽度、截面倾角和切线方向上的截面倾角。
地址 日本东京都