| 主权项 |
1.一种用于结合第一种基材与第二种基材的方法,该第一种基材在辐射光下是透明的,而且其上具有金属包覆表面,一可硬化密封剂位于该第一种基材与第二种基材之间,该密封剂部份被该金属包覆表面阻隔该辐射光,该方法包括下列步骤:a)将该辐射光瞄向朝该密封剂的路径上;及b)将一个光分散元件放在该路径上以造成该辐射光扩散,因此部份该被分散的辐射光系入射在并反射在该经由金属包覆面所遮蔽的密封剂上。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中该光分散元件包括一种该第二种基材上的粗涂层。3.根据申请专利范围第2项之方法,其中该粗涂层包含一种氧化铬/铬层。4.根据申请专利范围第2项之方法,其中该粗涂层包含一种有粒子沈积其上之金属包覆层。5.根据申请专利范围第1项之方法,其中该光分散元件包括一种其上一无光泽涂层之薄板,而且该放置步骤系将该薄板置于该第一种基材上。6.根据申请专利范围第5项之方法,其中一种流体耦合媒介系位于该薄板与该第一种基材之间。7.根据申请专利范围第1项之方法,其中该光分散元件包括一种位于该光学能源与该第一种基材之间的镜片装置。8.根据申请专利范围第1项之方法,其中该辐射光是在紫外光范围。9.根据申请专利范围第1项之方法,其中控制该导向步骤以扫描该辐射光横跨过该密封剂所处区域,并在该辐射光入射在该金属包覆面上时,增加该辐射光能量以使其加热,协助硬化该密封剂。10.一种用于结合第一种基材与第二种基材以形成一种显示面板的方法,该第一种基材在辐射光下是透明的,而且其上具有不透明金属包覆表面,一种二元可硬化密封剂位于该第一种基材与第二种基材之间,该密封剂部份被该金属包覆表面阻隔该辐射光,该二元可硬化密封剂可藉热及辐射光之施予而硬化之,该方法包括下列步骤:a)预先加热该第一种基材及第二种基材至一斜温度;b)将该辐射光瞄向朝该密封剂的路径上;及c)将一个光分散元件放在该路径上以造成该辐射光扩散,因此部份该被分散的辐射光及部份被反射的辐射光入射在该经由金属包覆面所遮蔽的密封剂上,因此该斜温度及该辐射光的组合可使该二元硬化密封剂硬化。11.根据申请专利范围第10项之方法,其中该光分散元件包括一种该第二种基材上之粗涂层。12.根据申请专利范围第11项之方法,其中该粗涂层包含一种氧化铬/铬层。13.根据申请专利范围第11项之方法,其中该粗涂层包含一种有粒子沈积其上之金属包覆层。14.根据申请专利范围第10项之方法,其中该光分散元件包括一种其上一无光泽涂层之薄板,而且该放置步骤系将该薄板置于该第一种基材上。15.根据申请专利范围第14项之方法,其中一种流体耦合媒介系位于该薄板与该第一种基材之间。16.根据申请专利范围第10项之方法,其中该光分散元件包括一种位于该光学能源与该第一种基材之间的镜片装置。17.根据申请专利范围第10项之方法,其中此斜温度系在从50℃至70℃之范围内。18.根据申请专利范围第10项之方法,其中此斜温度系低于该密封剂之硬化温度20℃至30℃。19.根据申请专利范围第10项之方法,其中该辐射光是在紫外光范围。图式简单说明:图1a是一个平板显示器的平面图。图1b是图1a沿着线1b-1b所撷取的截面图。图1c显示一个滤色器基材的放大图,其中基材的黑基质曾经过加工以引发入射辐射分散反射。图2是一个表示一种用于获得一分散反射表面之沈积方法的流程图。图3是表示一金属薄膜如铬之沈积及生长,当蒸汽束的入射角度不与完成沈积之表面垂直时。这造成斜圆柱生长,以各种不同角度反射入射光。图4表示使用一种离子束以喷溅一些所沈积的黑基质物质,留下一个较粗或无光泽面。图5使用喷砂以获得一无光泽面之黑基质。图6显示一无光泽面之薄透明板或一分散光传送物在照光前被置于面板顶部表面上以引发入射uv光束分散或分散穿透,该板也可能是一种被设计成以一角度方向分散光束的hologram。图7描述集中入射光束以使光束在入口分散进入上层面板的方法,因此在反射后,可提供入射光一个可穿入其他经遮蔽区域的路径。图8显示装在一个热平台上的面板以在使用一种二元密封剂时提供一接近硬化温度之斜温度。 |
