| 主权项 |
1.一种使用相同光源做为对准源与曝光源的方法,包括下列步骤:提供一基底与一光源,该基底之正面覆盖有一光阻层,该基底之背面配置有至少一对准标记;该光源经一分光器折射后做为一对准源,藉以对准该对准标记;以及该光源透过该分光器后做为一曝光源,藉以对该光阻层进行一曝光制程。2.如申请专利范围第1项所述之使用相同光源做为对准源与曝光源的方法,其中该光源系由曝光机所提供。3.如申请专利范围第1项所述之使用相同光源做为对准源与曝光源的方法,其中该光源系由步进机所提供。4.如申请专利范围第1项所述之使用相同光源做为对准源与曝光源的方法,更包括转动该分光器到一定角度,藉以使该光源可透过该分光器对该光阻层进行该曝光制程。5.如申请专利范围第1项所述之使用相同光源做为对准源与曝光源的方法,其中该基底之正面上方置有一光罩,用以在该曝光制程中,使该光罩上之图案转移到该光阻层上。6.如申请专利范围第1项所述之使用相同光源做为对准源与曝光源的方法,更包括当该光源经该分光器折射后,会再依序经过复数个镜面之折射,对配置于该基底背面之该对准记进行对准步骤。图式简单说明:第1A-1B图绘示的是依照本发明一较佳实施例的一种使用相同光源做为对准源与曝光源的方法流程图。 |
