发明名称 溅镀制程用之高耐久性金属遮罩
摘要 一种溅镀制程用之高耐久性金属遮罩,应用于液晶显示器玻璃基板上之导体层形成制程,于遮罩之一般表面上进行浮雕加工,以有效增加铟锡氧化物膜附着上浮雕遮罩一般表面的附着力。藉由附着力的增加,使铟锡氧化物膜与浮雕式光罩表面的结合更为稳固而不易脱落,大大减低其影响彩色滤光片生产良率之机率。除了彩色滤光片之制作品质不会因铟锡氧化物膜剥落问题而受影响,使用本创作之溅镀制程用之高耐久性金属遮罩,还可使遮罩之使用寿命延长,并可减少遮罩之使用数量,以有效降低生产成本。
申请公布号 TW525630 申请公布日期 2003.03.21
申请号 TW090222411 申请日期 2001.12.20
申请人 和鑫光电股份有限公司 发明人 饶裕丰;周贤亮;陈俊志;简永杰
分类号 C23C14/50 主分类号 C23C14/50
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路二段一○○号七楼之一;萧锡清 台北市中正区罗斯福路二段一○○号七楼之一
主权项 1.一种溅镀制程用之高耐久性金属遮罩,应用于涂布一导体层于一液晶显示器之一玻璃基板,包含:一平板,该平板具有至少一镂空区域,该平板其中一面呈一凹凸不平状。2.如申请专利范围第1项所述之溅镀制程用之高耐久性金属遮罩,其中该平板为导体。3.如申请专利范围第1项所述之溅镀制程用之高耐久性金属遮罩,其中该镂空区域之形状包括矩形。4.如申请专利范围第1项所述之溅镀制程用之高耐久性金属遮罩,其中该镂空区域之形状包括一图案化线路图形。5.如申请专利范围第1项所述之溅镀制程用之高耐久性金属遮罩,其中该凹凸不平状之形成方式包括化学蚀刻。6.如申请专利范围第1项所述之溅镀制程用之高耐久性金属遮罩,其中该凹凸不平状包括一图案化之浮雕花纹。图式简单说明:第1图绘示习知于溅镀制程时所使用之遮罩之正面示意图;第2图绘示习知于溅镀制程时遮罩接触于玻璃基板之剖面示意图;第3a图绘示本创作之溅镀制程用之高耐久性金属遮罩正面局部示意图;第3b图绘示本创作之溅镀制程用之高耐久性金属遮罩局部剖面示意图。
地址 新竹县湖口乡新竹工业区文化路二之一号