发明名称 PROCESS AND CIRCUITRY FOR GENERATING CURRENT PULSES FOR ELECTROLYTIC METAL DEPOSITION
摘要
申请公布号 HK1017392(A1) 申请公布日期 2003.03.21
申请号 HK19990102336 申请日期 1999.05.25
申请人 ATOTECH DEUTSCHLAND GMBH 发明人 HUEBEL, EGON
分类号 C25D5/18;C25D21/00;(IPC1-7):H03K 主分类号 C25D5/18
代理机构 代理人
主权项
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