| 摘要 |
Eine Photomaske (19), die gegen eine elektrostatische Beschädigung geschützt ist, und ein Verfahren zum Herstellen einer solchen Photomaske sind offenbart. Die Photomaske (8) weist ein transparentes Substrat (10) auf, auf dem eine lichtundurchlässige Struktur, wie z. B. Linien (12), (14), (16) und (18), aufgebracht ist. Ein transparenter leitfähiger Film (30) ist über dem Substrat (10) und der Struktur derart aufgebracht, dass die verschiedenen Abschnitte der Struktur (Linien (12), (14), (16) und (18)) alle auf dem gleichen elektrischen Potential gehalten werden, wodurch eine Beschädigung aufgrund einer elektrostatischen Entladung verhindert wird. |
