发明名称 Semiconductor device
摘要 <p>Die vorliegende Erfindung schafft eine Halbleiterstruktur, die einen ersten Bereich (10) mit einem ersten Dotiertyp und einer ersten Dotierkonzentration und einen zweiten Bereich (12) mit einem zweiten Dotiertyp und einer zweiten Dotierkonzentration aufweist, wobei der zweite Dotiertyp zu dem ersten Dotiertyp unterschiedlich ist. Der zweite Bereich (12) ist so angeordnet, daß er an den ersten Bereich (10) angrenzt. Die Halbleiterstruktur umfaßt ferner einen dritten Bereich (16a-e) mit dem ersten Dotiertyp und einer dritten Dotierkonzentration, wobei der dritte Bereich (16a-e) innerhalb des zweiten Bereichs (12) angeordnet ist, so daß der dritte Bereich (16a-e) im wesentlichen vollständig in einer Raumladungszone in dem zweiten Bereich (12) angeordnet ist, die entsteht, wenn eine Betriebsspannung an die Halbleiterstruktur angelegt wird. &lt;IMAGE&gt;</p>
申请公布号 EP1294024(A2) 申请公布日期 2003.03.19
申请号 EP20020016117 申请日期 2002.07.19
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 GABL, REINHARD
分类号 H01L29/08;H01L29/36;(IPC1-7):H01L29/36;H01L29/10 主分类号 H01L29/08
代理机构 代理人
主权项
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