| 发明名称 |
Method for determining lithographic focus and exposure |
| 摘要 |
A method for determining one or more process parameter settings of a photolithographic system is disclosed.
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| 申请公布号 |
US2003048458(A1) |
申请公布日期 |
2003.03.13 |
| 申请号 |
US20020186294 |
申请日期 |
2002.06.26 |
| 申请人 |
MIEHER WALTER;DZIURA THADDEUS G.;LEVY ADY;MACK CHRIS A. |
发明人 |
MIEHER WALTER;DZIURA THADDEUS G.;LEVY ADY;MACK CHRIS A. |
| 分类号 |
G03F7/20;(IPC1-7):G01B11/24 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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