| 发明名称 |
Method for controlling a process device for sequential processing of semiconductor wafers |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
GB2379555(A) |
申请公布日期 |
2003.03.12 |
| 申请号 |
GB20020028420 |
申请日期 |
2002.04.29 |
| 申请人 |
* INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
THORSTEN * SCHEDEL;KARL * SCHUMACHER;THOMAS * FISCHER;HEIKO * HOMMEN;RALF * OTTO;SEBASTIAN * SCHMIDT |
| 分类号 |
G03F7/20;H01L21/66;(IPC1-7):H01L21/66 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
