发明名称 低热膨涨高刚性陶瓷烧结体
摘要 本发明之低热膨胀高刚性陶瓷烧结体的特征在于,其系由结晶构造采六方密装晶格构造,且实质地以式MgaLib FecAldSieOf(式中a之范围为1.8~1.9;b之范围为0.1~0.3; c之范围为0~0.2;d之范围为3.9~4.1;e之范围为6.0~7.0; f之范围为19~23)表示之固溶体结晶粒所构成。进一步之特征在于,固溶体结晶粒的晶格定数之范围为a0=9.774~9.804,c0=9.286~9.330,且烧结体之相对密度为98%以上。
申请公布号 TW523499 申请公布日期 2003.03.11
申请号 TW089106233 申请日期 2000.04.05
申请人 新制铁股份有限公司 发明人 野濑哲郎;森田英彦;高桥史明
分类号 C04B35/01 主分类号 C04B35/01
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种低热膨胀高刚性陶瓷烧结体,特征为其系由结晶构造采六方密装晶格构造,且实质地以式MgaLibFecAldSieOf(式中a之范围为1.8-1.9;b之范围为0.1-0.3;c之范围为0-0.2;d之范围为3.9-4.1;e之范围为6.0-7.0;f之范围为19-23)表示之固溶体结晶粒所构成。2.如申请专利范围第1项之低热膨胀高刚性陶瓷烧结体,其特征在于固溶体结晶粒的晶格定数之范围为a0=9.774-9.8048,c0=9.286-9.330。3.如申请专利范围第1或第2项之低热膨胀高刚性陶瓷烧结体,其特征在于烧结体之相对密度为98%以上。
地址 日本
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