| 主权项 |
1.一种正型光阻组成物,其特征为含有含以一般式(I)所示重复构造单位之硷可溶性或酸分解性聚矽氧烷,(其中,L表示-A-NHCO-之2价连结基;A表示单键、芳基或伸芳基;X表示单键或2价连结基;Z表示以所示之任一化学式;Y表示氢原子、或Y表示烷基、芳基或芳烷基;Y所示之原子团系为直链状、支链状或环状;R表示氢原子,或R表示酸可分解之基;1表示1-3之整数;m表示1-3之整数)。2.如申请专利范围第1项之正型光阻组成物,其更含有与以一般式(II)所示之重复构造单位并用的硷可溶性或酸分解性聚矽氧烷,(其中,A'、X'、Z'各与一般式(I)之A、X、Z之范围相同者)。3.如申请专利范围第1项之正型光阻组成物,其中合有一般式(I)之Z中R为氢原子之硷可溶性聚矽氧烷。4.如申请专利范围第2项之正型光阻组成物,其中含有一般式(II)之Z'中R为氢原子之硷可溶性聚矽氧烷。5.如申请专利范围第2项之正型光阻组成物,其中A'系-(CH2)n-。6.如申请专利范围第1项之正型光阻组成物,其中于一般式(I)中L系-(CH2)3-NHCO-。7.如申请专利范围第3项之正型光阻组成物,其更含有分子内所含的苯酚性羟基之至少一部分被酸分解性基部分地或完全地保护之苯酚性化合物。8.如申请专利范围第3项之正型光阻组成物,其中更含有分子内所含的羧基之至少一部分被酸分解性基部分地或完全地保护之芳香族或脂肪族羧酸化合物。9.一种正型光阻组成物,其特征为至少含有下述(a)、(b)、(c)及(d);(a)含有一般式(I)所示之重复构造单位之硷可溶性或酸分解性聚矽氧烷;(其中,L表示-A-NHCO-之2价连结基;A表示单键、芳基或伸芳基;X表示单键或2价连结基;Z表示以所示之任一化学式;Y表示氢原子、或Y表示烷基、芳基或芳烷基;Y所示之原子团系为直链状、支链状或环状;R表示氢原子,或R表示酸可分解之基;1表示1-3之整数;m表示1-3之整数)(b)藉由曝光分解产生酸之化合物;(c)(c1)分子内含有的苯酐性羟基之至少一部分被酸分解性基部分地或完全地保护之苯酚性化合物;(c2)分子内含有的羧基之至少一部分被酸分解性基部分地或完全地保护之芳香族或脂肪族羧酸化合物;(d)可使上述(a)、(b)及(c)一起溶解的溶剂。10.如申请专利范围第9项之正型光阻组成物,其中更含有与以一般式(II)所示之重复构造单位并用的硷可溶性或酸分解性聚矽氧烷。(其中,A'、X'、Z'各与一般式(I)之A、X、Z之范围相同者)。11.如申请专利范围第10项之正型光阻组成物,其中A'系-(CH2)n-。12.如申请专利范围第9项之正型光阻组成物,其中于一般式(I)中L系-(CH2)3-NHCO-。13.一种正型光阻组成物,其特征为至少含有下述(a)、(b)及(d);(a)含有一般式(I)所示之重复构造单位之硷可溶性或酸分解性聚矽氧烷;(其中,L表示-A-NHCO-之2价连结基;A表示单键、芳基或伸芳基;X表示单键或2价连结基;Z表示以所示之任一化学式;Y表示氢原子、或Y表示烷基、芳基或芳烷基;Y所示之原子团系为直链状、支链状或环状;R表示氢原子,或R表示酸可分解之基;1表示1-3之整数;m表示1-3之整数)(b)藉由曝光分解产生酸之化合物;(d)可使上述(a)及(b)一起溶解的溶剂。14.如申请专利范围第13项之正型光阻组成物,其更含有与以一般式(II)所示之重复构造单位并用的硷可溶性或酸分解性聚矽氧烷;(其中,A'、X'、Z'各与一般式(I)之A、X、Z之范围相同者)。15.如申请专利范围第14项之正型光阻组成物,其中A'系-(CH2)n-。16.如申请专利范围第13项之正型光阻组成物,其中于一般式(I)中L系为-(CH2)3NHCO-。 |
