发明名称 Method of forming a phase-change memory cell using silicon on insulator low electrode in chalcogenide elements
摘要 The invention relates to a phase-change memory device that uses SOI in a chalcogenide volume of memory material. Parasitic capacitance, both vertical and lateral, are reduced or eliminated in the inventive structure.
申请公布号 US6531373(B2) 申请公布日期 2003.03.11
申请号 US20000751485 申请日期 2000.12.27
申请人 OVONYX, INC. 发明人 GILL MANZUR;LOWREY TYLER
分类号 G11C16/02;H01L27/12;H01L27/24;(IPC1-7):H01L21/76 主分类号 G11C16/02
代理机构 代理人
主权项
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