Ventilmittel für eine Slurry-Auslassöffnung einer Vorrichtung für Chemisch-Mechanisches Polieren

摘要

Die Erfindung betrifft ein Ventilmittel für eine Slurry-Auslassöffnung (1) einer Anlage zum chemisch-mechanischen Polieren, insbesondere von Halbleiterscheiben bei der DRAM-Produktion, gekennzeichnet durch eine die Slurry-Auslassöffnung (1) überdeckende, elastische Membran (2) mit mindestens einer selbstverschließbaren Öffnung (3), wobei die Öffnung (3) durch strömende Slurry in eine Durchlassstellung für die Slurry bringbar und bei nicht-strömender Slurry selbsttätig in eine Absperrstellung für die Slurry bringbar ist. Auch eine CMP-Anlage mit einem solchen Ventilmittel ist Gegenstand der Erfindung. Damit wird ein einfaches Mittel zur Verhinderung von Partikelagglomerisationen im Bereich der Fluid-Auslassöffnung (1) einer CMP-Anlage geschaffen.