| 摘要 |
<p>Es wird ein Verfahren zur Erzeugung einer nanostrukturierten, insbesondere keramikartigen Funktionsbeschichtung (17) auf einem Substrat (16) vorgeschlagen. Dazu wird mit wenigstens einer Plasmaquelle (11, 12) ein gepulstes Plasma (13, 14) erzeugt, mit dem auf dem Substrat (16) über einen Werkstoffeintrag eine Matrixphase (30) and mindestens eine, darin eingebettete nanoskalige Einlagerungsphase (31) abgeschieden wird. Bevorzugt wird eine Mehrzahl von zeitlich korreliert oder synchronisiert zueinander gepulsten Plasmaquellen (11, 12) verwendet. Weiter wird eine nanostrukturierte, insbesondere nach diesem Verfahren herstellbare Funktionsbeschichtung (17) vorgeschlagen, die frei von Chlor und/oder Schwefel ist, und die mindestens ein Metall und/oder mindestens ein Element ausgewählt aus der Gruppe Sauerstoff, Wasserstoff, Stickstoff, Kohlenstoff, Helium, Argon oder Neon enthält.</p> |
