发明名称 液膜形成方法及固体膜的形成方法
摘要 本发明提供一种液膜形成方法及使用它的固体膜的形成方法,在将液体螺旋状地供给到被处理基板上进行成膜的技术中,在抑制液体朝向被处理基板外放出的同时、形成均匀的膜。在从滴下部向被处理基板上滴下液体的同时、一边使上述被处理基板旋转,一边使上述滴下部以上述被处理基板每旋转一周所产生的径向的上述滴下部的移动间距变化的方式沿径向移动,而且,伴随着上述滴下部的上述被处理基板径向的移动,为了使被滴下的该液膜由于施加在滴下的液膜的离心力移动,调整该基板的转速及从该滴下部供给的上述液体的供给速度v,在上述被处理基板上形成液膜。
申请公布号 CN1400632A 申请公布日期 2003.03.05
申请号 CN02126980.7 申请日期 2002.07.26
申请人 株式会社东芝 发明人 伊藤信一
分类号 H01L21/027;H01L21/00 主分类号 H01L21/027
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 张会华
主权项 1.一种液膜形成方法,其特征在于,在从滴下部向被处理基板上滴下液体的同时,一边使上述被处理基板旋转、一边以使上述被处理基板每旋转一周所产生的径向的上述滴下部的移动间距变小的方式使上述滴下部从上述被处理基板的内周部朝向该基板的外周部沿径向移动,并且伴随着上述滴下部沿上述被处理基板的径向的移动,为了不由施加在被滴下的液膜上的离心力使被滴下的该液膜移动,而一边渐渐地降低该基板的转速、一边调整从该滴下部滴下的上述液体的供给速度,在上述被处理基板上形成液膜。
地址 日本东京都