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发明名称
Apparatus and process for remote microwave plasma generation
摘要
申请公布号
EP0874386(B1)
申请公布日期
2003.03.05
申请号
EP19980107040
申请日期
1998.04.17
申请人
APPLIED MATERIALS, INC.
发明人
BKATNAGAR, YASHRAJ K.
分类号
H05H1/46;H01J37/32;H01L21/31;(IPC1-7):H01J37/32
主分类号
H05H1/46
代理机构
代理人
主权项
地址
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