| 主权项 |
1.一种镀覆方法,系在被镀覆物上进行电解或非电解镀覆之镀覆方法,其特征为:在使镀覆液中之溶存气体脱气后,或在使镀覆液中之溶存气体脱气之同时进行镀覆;及/或在使前处理液中之溶存气体脱气后,或者在使前处理液中之溶存气体脱气之同时进行前处理,然后进行镀覆。2.如申请专利范围第1项之镀覆方法,其系将被镀覆物浸渍在经脱气之前处理液中或者在以脱气装置使前处理液脱气之同时将被镀覆物浸渍在前处理液中,以该前处理液湿润后,进行前述之电解或非电解镀覆者。3.如申请专利范围第1项之镀覆方法,其系将被镀覆物浸渍在经脱气之镀覆液中或者在以脱气装置使镀覆液脱气之同时将被镀覆物浸渍在镀覆液中,而进行镀覆者。4.如申请专利范围第1项之镀覆方法,其系将经脱气之前处理液喷射到被镀覆物之表面或者在以脱气装置使前处理液脱气之同时将前处理液喷射到被镀覆物之表面,以该前处理液湿润后,进行前述之电解或非电解镀覆者。5.如申请专利范围第1项之镀覆方法,其系将经脱气之镀覆液喷射到被镀覆物之表面或者在以脱气装置使镀覆液脱气之同时将镀覆液喷射到被镀覆物之表面,而进行镀覆者。6.如申请专利范围第4或5项之镀覆方法,其系在使前述被镀覆物旋转之同时喷射前述前处理液或镀覆液,或者使喷射的动作本身旋转者。7.如申请专利范围第6项之镀覆方法,其中前述脱气系使用具有脱气膜之脱气膜模组与真空泵浦而进行者。8.如申请专利范围第6项之镀覆方法,其系装设有检测前述镀覆液或前处理液之溶存气体浓度之溶存气体浓度感测器,以在监测溶存气体浓度之同时进行脱气处理者。9.如申请专利范围第8项之镀覆方法,其中经处理之液体经泵浦压送以备循环使用,该循环路径中装设有脱气装置之旁通配管,以调整流入脱气装置之流量而进行脱气处理之镀覆方法。10.如申请专利范围第9项之镀覆方法,其中前述镀覆液或前处理液系将溶存气体之浓度维持在4ppm至1ppb之间,而进行镀覆或前处理者。11.一种镀覆装置,系在镀覆槽中进行被镀覆物之电解或非电解镀覆之装置,其特征为具有:令镀覆液循环于该镀覆槽的镀覆液循环系统及/或令前处理液循环于用以在镀覆之前实施前处理之前处理槽的前处理液循环系统;同时装设有对供给至前述镀覆槽之镀覆液、及/或在前处理槽中进行镀覆之前实施前处理之前处理液进行脱气处理,以去除存在于其中之溶存气体之脱气装置。12.如申请专利范围第11项系具备收纳镀覆液之镀覆槽,以在该镀覆槽中进行被镀覆物之电解或非电解镀覆者,其中具备有在前述镀覆槽中使镀覆液循环之镀覆液循环系统,该镀覆液循环系统装设有脱气装置,使由前述镀覆槽中排出之镀覆液中之溶存气体脱气,再供给至该镀覆槽。13.如申请专利范围第11项之镀覆装置,系具备收纳前处理液之前处理槽,以在该前处理槽中进行被镀覆物之前处理后,在该镀覆槽进行该被镀覆物的镀覆者,其中具备有在前述前处理槽中使前处理液循环之前处理液循环系统,该前处理液循环系统装设有脱气装置,使由前述前处理槽中排出之前处理液中之溶存气体脱气,再供给至该前处理槽。14.如申请专利范围第11至13项中任一项之镀覆装置,其中前述脱气装置具备至少具有脱气膜之脱其膜模组与真空泵浦。15.如申请专利范围第12或13项之镀覆装置,其中装设有检测通过前述处理液循环系统之液体之溶存气体浓度之溶存气体浓度感测器,并且装设有控制脱气装置之压力之控制装置,该控制装置系控制真空排气系统之压力,而可调整前述镀覆液之溶存气体浓度。16.如申请专利范围第12项之镀覆装置,其中在前述镀覆液循环系统装设镀覆液循环桶,而在该镀覆液循环桶装设脱气装置;或者在该镀覆液循环桶与前述镀覆槽之间装设使镀覆液循环之第1镀覆液循环路径,另在该镀覆液循环桶装设使镀覆液循环之第2镀覆液循环路径,而在该第2镀覆液循环路径装设脱气装置,以在前述镀覆液脱气之同时进行镀覆。17.如申请专利范围第13项之镀覆装置,其中在前述前处理液循环系统装设前处理液循环桶,而在该前处理液循环桶装设脱气装置;或者在该前处理液循环桶与前述前处理槽之间装设使前处理液循环之第1前处理液循环路径,另在该前处理液循环桶装设使前处理液循环之第2前处理液循环路径,而在该第2前处理液循环路径装设脱气装置,并具备以在前述前处理液脱气之同时进行前处理之前处理槽者。18.如申请专利范围第16或17项之镀覆装置,其中装设有将惰性气体供给至前述镀覆液循环桶或前处理液循环桶之液面之惰性气体供给装置。19.如申请专利范围第12项之镀覆装置,其中在前述镀覆液循环系统装设脱气装置,并且装设该脱气装置之旁通配管,以控制流经前述脱气装置之流量。20.如申请专利范围第13项之镀覆装置,其中在前述前处理液循环系统装设脱气装置,并且装设该脱气装置之旁通配管,以控制流经前述脱气装置之流量。21.如申请专利范围第19或20项之镀覆装置,其中当流经前述旁通配管之流量多时,可调整前述脱气装置减压侧之压力,使压力降低,当流经前述旁通配管之流量少时,可调整前述脱气装置减压侧之压力,使压力增高。22.如申请专利范围第19或20项之镀覆装置,其中配置有可检测通过前述脱气装置之配管与前述旁通配管合流前,或合流后之溶存气体浓度之感测器。图式简单说明:第1图显示过去之镀覆装置构成例之图。第2图显示本发明之第1实施型态相关之镀覆装置构成例之图。第3图显示本发明之第1实施型态变化例相关之镀覆装置构成例之图。第4图显示本发明之第1实施型态变化例相关之镀覆装置构成例之图。第5图显示本发明之第1实施型态变化例相关之镀覆装置构成例之图。第6图显示本发明之第1实施型态变化例相关之镀覆装置构成例之图。第7图显示本发明之第1实施型态变化例相关之镀覆装置构成例之图。第8图显示本发明之第1实施型态变化例相关镀覆装置中,使用前处理装置之构成例之图。第9图显示本发明之第1实施型态变化例相关镀覆装置中,使用前处理装置之构成例之图。第10图显示本发明之第1实施型态变化例相关之镀覆装置构成例之图。第11图显示本发明之第1实施型态变化例相关之镀覆装置构成例之图。第12图显示本发明之第2实施型态相关之镀覆装置构成例之图。第13图显示本发明之第2实施型态变化例相关镀覆装置之前处理装置之构成例之图。第14图显示本发明之第2实施型态变化例相关之镀覆装置构成例之图。第15图显示本发明之第2实施型态变化例相关之镀覆装置构成例之图。第16图显示本发明之第2实施型态变化例相关之镀覆装置之前处理装置构成例之图。第17图显示本发明之第2实施型态变化例相关之镀覆装置构成例之图。第18图显示本发明之第2实施型态变化例相关之镀覆装置构成例之图。第19图显示本发明之第2实施型态变化例相关之镀覆装置之前处理装置构成例之图。第20图显示本发明之第2实施型态变化例相关之镀覆装置构成例之图。第21图显示本发明之第3实施型态变化例相关之镀覆装置构成例之图。第22图显示本发明之第3实施型态变化例相关之镀覆装置之前处理装置构成例之图。 |
