发明名称 电浆处理装置及电浆处理方法
摘要 本发明有关于具备了电浆生成机构之电浆处理装置及电浆处理方法。其主要构成乃:一种电浆处理装置,主要乃备有处理试料之处理室1之电浆处理装置中,其特征为:具备有:检出处理室内部之处理状态而输出复数之输出讯号之状态检出机构,及藉由讯号滤波器选择机构而从集合了讯号滤波器之资料库中取出任意数量之讯号处理滤波器而构成之生成任意数之装置状态讯号之讯号变换部,且在于上述讯号变换部而从上述输出讯号而生成具有较该输出讯号之数目为少之时系列之上述装置状态讯号之电浆处理装置,及应用它之试料制造系统,半导体装置, LCD装置以及处理方法。
申请公布号 TW522489 申请公布日期 2003.03.01
申请号 TW090104034 申请日期 2001.02.22
申请人 日立制作所股份有限公司 发明人 田中润一;橘内浩之;西尾良司;菅野诚一郎;山本秀之
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种电浆处理装置,主要乃备有处理试料之处理室之电浆处理装置中,其特征为:具备有:检出处理室内部之处理状态而输出复数之输出讯号之状态检出机构,及藉由讯号滤波器选择机构而从集合了讯号滤波器之资料库中取出任意数量之讯号处理滤波器而构成之生成任意数之装置状态讯号之讯号变换部,且在于上述讯号变换部而从上述输出讯号而生成具有较该输出讯号之数目为少之时系列之上述装置状态讯号者。2.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中备有,以上述装置状态讯号为输入以资控制装置状态之机构者。3.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中电浆处理装置系具备有显示器,而将上述装置状态讯号之时间变化显示于该显示器者。4.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中做为上述状态检出机构而使用,将上述电浆之发光予以波长分解之机构者。5.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中做为上述状态检出机构而使用将检出包含上述电浆处理装置之任意之点之电气的状态之机构者。6.如申请专利范围第5项所述之电浆处理装置,其中具有将表示上述电气的状态之讯号予以周波数分解之机构者。7.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中当做为上述电浆发生机构而具有对于上述处理室赋加电力之电力供给机构时,将电力之反射成份使用为上述状态检出机构者。8.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中备有对于上述电浆赋加光讯号之机构,将检出上述光讯号之通过或反射上述电浆所变化之讯号做为上述状态检出机构者。9.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中备有对于上述电浆赋加电气的讯号之机构,将检出上述电气的讯号之通过或反射上述电浆所变化之讯号做为上述状态之检出机构者。10.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中上述讯号滤波器系备有,将处理了几个试料之结果予以主成份分析所获得之固有向量者。11.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中上述讯号滤波器系备有,将处理了几个试料之结果予以主成份分析所获得之固有向量复数个予以合成之向量者。12.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中使用几个试料之处理之结果来更新上述资料库者。13.如申请专利范围第12项所述之电浆处理装置,其中将通常之处理晶圆以外之呼称〝伪〞之试料依照预先设定之处理次序地予以处理,而将依照所获得之资料而更新上述资料库者。14.如申请专利范围第12项或13项所述之电浆处理装置,其中备有监视上述资料库之更新状况之机构者。15.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中某一状态检出机构系在于资料库之作成后停止其动作,或从装置而去除者。16.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中藉由与外部之通讯而取得或更新上述资料库者。17.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中上述讯号滤波器乃具备有号码或名称或记号等之标签,备有由上述标签来选择一个以上之上述讯号滤波器之机构,而将上述被选择之讯号滤波器所构成之上述讯号变换部之上述装置状态讯号使用于显示或输出或装置之控制者。18.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中具有预先予以定义之几个装置状态之目录,备有使用上述装置状态讯号而从上述装置状态目录中选出一个状态之机构,以资显示或输出上述装置之状态者。19.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中随应于上述装置之状态而改变输出或显示装置状态讯号之数目者。20.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中随应于来自电浆处理装置外部之要求而令所输出之装置状态讯号之数目改变者。21.如申请专利范围第1项所述之电浆处理装置,其中具备有:设定有各装置状态讯号之须满足之规定之范围等之条件,而备有依据是否达满足上述条件来判断,实施装置之清扫,或更换构件,或开始试料之处理等等之变更装置之运用状态之判断机构者。22.如申请专利范围第21项所述之电浆处理装置,其中如以一个上述电浆处理装置来处理所要求之加工精度不同之种类之试料时,具备有藉由上述装置状态讯号之是否能满足上述条件与否来选择可以处理之试料之种类之机构者。23.一种试料制造系统,其特征系使用如申请专利范围第1项乃至第22项所述之电浆处理装置来制造试料。24.一种半导体装置,其特征系使用如申请专利范围第1项乃至第22项其中之一项所述之电浆处理装置来加工试料所制成。25.一种LCD装置,其特征系使用如申请专利范围第1项乃至第22项其中之一项所述之电浆处理装置来加工试料所制成。26.一种电浆处理方法,主要系在于,具备有,处理室,及对于上述处理室供给处理气体之机构,及于上述处理室中生成电浆之机构而成之电浆处理装置之电浆处理方法中,其特征为:以状态检出机构来检出上述处理室内部之处理状态而输出复数之输出讯号,藉由讯号滤波器选择机构而从集合了讯号滤波器之资料库取出任意数目之讯号处理滤波器所构成之讯号变换部来生成任意数目之装置状态讯号,在于上述讯号变换部而上述输出讯号生成较该输出讯号少之数目之具有时系列之上述装置状态讯号者。图式简单说明:第1图系表示本发明之一实施例之模式图。第2图系表示成为本发明之讯号滤波器之固有向量之曲线图。第3图系表示本发明之另一实施例之模式图,乃第1图之一部份。第4图系表示本发明之另一实施例之为了生成讯号滤波器之数据之采样方法之时序图。第5图系表示本发明之另一实施例之讯号行列及讯号滤波器之生成法之图。第6图系表示于本发明之另一实施例中之讯号滤波器与其意思之对应表。第7图系本发明之又一实施例之使用者介面者。第8图系本发明之又一实施例之遥控诊断方法之模式图。第9图系本发明之又一实施例之流程图。
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