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Una disposición basada en levas configurada para mover un anillo de confinamiento a lo largo de un primer eje de una cámara de proceso por plasma, estando dispuesto dicho anillo de confinamiento en un plano que es ortogonal a dicho primer eje, que comprende: un anillo de levas que tiene una pluralidad de regiones de levas formadas sobre una primera superficie de dicho anillo de levas; una pluralidad de palpadores de levas en contacto rodante con dicha primera superficie de dicho anillo de levas; una pluralidad de émbolos orientados paralelos a dicho primer eje, estando acoplada dicha pluralidad de émbolos a uno de entre dicha pluralidad de palpadores de leva y a dicho anillo de confinamiento, en la que dicha pluralidad de émbolos se mueven en una manera orquestada paralela a dicho primer eje a medida que dicho anillo de levas es rotado y dicha pluralidad de palpadores de levas permanecen en dicho contacto rodante con dicha primera superficie de dicho anillo de levas.
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