| 摘要 |
<p>La invención se refiere a un material para formar películas de recubrimiento vítreo, caracterizado porque comprende compuestos representados por la fórmula general (1) a (3): R{sup,1}{sub,p} Si(OR{sup,2}) {sub,4-p} (1), R{sup,2} (OSi(OR{sup,2}){sub,2}) {sub,q } OR{sup,2} (2), M(OR{sup,3}) {sub,r} (3) en las que R{sup,1} es un grupo orgánico polimerizable; R{sup,2} es un alquilo que tiene hasta 4 átomos de carbono; R{sup,3} es un alquilo que tiene hasta 6 átomos de carbono; p es un entero de 1 a 3; q es un entero de 1 a 10; M es un ión metálico que tiene valencia 3 ó 4; y r es un entero de valor 3 ó 4 dependiendo de la valencia de M, siempre que cuando cada compuesto contenga más de un grupo de R{sup,1}, R{sup,2} o R{sup,3}, entonces éste puede ser igual o distinto. Estos materiales forman películas de recubrimiento vítreo que tienen suficiente flexibilidad, el control del espesor de película es excelente en una región del orden del micrómetro, y curan rápidamente para dar una película curada que tiene alta adhesión al sustrato y excelente resistencia a disolventes orgánicos. La invención también se refiere a un procedimiento de recubrimiento que emplea los citados materiales y a un recubridor.</p> |
