Chemisch verstärkte Negativ-Fotolackzusammensetzung zur Bildung von Dickfilmen, Fotolack-Basismaterial und Verfahren zur Bildung von Kontakthöckern unter Verwendung desselben

摘要

Eine chemisch verstärkte Negativ-Fotolackzusammensetzung wird zur Bildung von Dickfilmen mit einer Dicke von 20 bis 150 mum verwendet und schließt (A) ein alkalilösliches Harz, (B) eine Verbindung, die eine Säure bei Bestrahlung mit aktivem Licht oder Bestrahlung erzeugt, und (C) eine Verbindung ein, die als Vernetzungsmittel in Gegenwart einer Säure dient. Das alkalilösliche Harz (A) schließt (a1) ein Novolak-Harz mit einem Gewichtsmittelwert des Molekulargewichts von 5000 bis 10000 und (a2) ein Polymer ein, das wenigstens eine Hydroxystyrol-Grundeinheit enthält und einen Gewichtsmittelwert des Molekulargewichts von gleich oder weniger als 5000 aufweist.