| 摘要 |
<p>Système lithographique comprenant un élément convertisseur (7) destiné à recevoir la lumière et à la convertir en une pluralité de faisceaux d'électrons (15) devant être dirigés et focalisés sur un substrat (10) à traiter, la pluralité de faisceaux d'électrons (15) étant utilisée pour former un motif dans une couche de réserve (20) du substrat (10). Ce système lithographique est formé d'une feuille de protection pourvue de trous au niveau des positions des faisceaux d'électrons (23) disposés de façon à protéger, en utilisation, l'élément convertisseur (7) de la contamination par un matériau de la couche de réserve (21).</p> |
