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发明名称 Use of pulsed voltage in a plasma reactor
摘要
申请公布号 GB0301969(D0) 申请公布日期 2003.02.26
申请号 GB20030001969 申请日期 2001.08.17
申请人 MICRON TECHNOLOGY INC 发明人
分类号 H05H1/46;H01J37/32;H01L21/3065 主分类号 H05H1/46
代理机构 代理人
主权项
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