发明名称 | 电荷粒子射线的射束轴调整装置和辐射装置 | ||
摘要 | 本发明的课题在于以双重散射体入射方式、在较短时间获得精度良好的辐射剂量分布,即使在治疗的辐射过程中,仍可实时地对辐射剂量进行调整。通过下述射束轴调整装置(22)、保证射束轴的精度,并根据辐射剂量分布的平坦度监视器(20D)的测定结果、对第2散射体(20B)的位置进行细微调整,由此确保平坦的辐射剂量分布,该射束轴调整装置(22)包括设置于电荷粒子射线的射束输送系统中的射束位置检测器(26);设置于其进入侧的转向电磁铁(24X、24Y)或偏转电磁铁(27)。 | ||
申请公布号 | CN1398651A | 申请公布日期 | 2003.02.26 |
申请号 | CN02141909.4 | 申请日期 | 2002.07.24 |
申请人 | 住友重机械工业株式会社 | 发明人 | 片冈昌治;立川敏树 |
分类号 | A61N5/10 | 主分类号 | A61N5/10 |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 黄剑锋 |
主权项 | 1.一种电荷粒子射线的射束轴调整装置,其特征在于该装置包括:射束位置检测器,其设置于电荷粒子射线的射束输送系统中;转向机构,其用于对应于该射束位置检测器的输出、调整射束轴的位置,该机构设置于该射束轴位置检测器的进入侧,其由可调整射束轴的位置的转向电磁铁或偏转电磁铁形成。 | ||
地址 | 日本东京都 |