| 主权项 |
1.一种水性光阻剥离组成物,包含(a) 0.0001至60重量%之氧化剂,(b) 0.01至5重量%之钳合剂,(c)0.001至10重量%之水溶性氟化合物,及其余为水。2.一种水性光阻剥离组成物,包含(a)0.0001至60重量%之氧化剂,(b)0.01至5重量%之钳合剂,(c)0.001至10重量%之水溶性氟化合物,(d)1至70重量%之有机溶剂,及其余为水。3.如申请专利范围第1或2项之水性光阻剥离组成物,其中该氧化剂为至少一种选自于过氧化氢、臭氧及氢氯酸之氧化物。4.如申请专利范围第1或2项之水性光阻剥离组成物,其中该氧化剂为过氧化氢。5.如申请专利范围第1或2项之水性光阻剥离组成物,其中该钳合剂为至少一种选自于胺基聚羧酸、胺基聚羧酸之铵盐、胺基聚羧酸之金属盐、胺基聚羧酸之有机硷盐、磷钳合剂、磷钳合剂之铵盐、磷钳合剂之有机胺盐、磷钳合剂之硷金属盐、磷钳合剂之N-氧化物、缩合磷酸、缩合磷酸之铵盐、缩合磷酸之金属盐、及缩合磷酸之有机胺盐之化合物。6.如申请专利范围第5项之水性光阻剥离组成物,其中该胺基聚羧酸为至少一种选自于伸乙二胺四乙酸、二羟基乙基伸乙二胺四乙酸、1,3-丙二胺四乙酸、二伸乙三胺五乙酸、三伸乙四胺六乙酸、氮基三乙酸及羟基乙基亚胺基二乙酸之化合物。7.如申请专利范围第5项之水性光阻剥离组成物,其中该磷钳合剂为至少一种选自于甲基二磷酸、胺基参亚甲基磷酸、亚乙基二磷酸、1-羟基亚乙基-1,1-二磷酸、1-羟基亚丙基-1,1-二磷酸、乙胺基贰亚甲基磷酸、十二胺基贰亚甲基磷酸、氮基参亚甲基磷酸、伸乙二胺贰亚甲基磷酸、伸乙二胺肆亚甲基磷酸、己烷二胺肆亚甲基磷酸、二伸乙三胺五亚甲基磷酸及1,2-丙烷二胺四亚甲基磷酸之化合物。8.如申请专利范围第5项之水性光阻剥离组成物,其中该缩合磷酸为至少一种选自于偏磷酸、四偏磷酸、六偏磷酸及三聚磷酸之化合物。9.如申请专利范围第1或2项之水性光阻剥离组成物,其中该钳合剂为磷钳合剂。10.如申请专利范围第9项之水性光阻剥离组成物,其中该磷钳合剂具有2至6个磷酸基。11.如申请专利范围第9项之水性光阻剥离组成物,其中该磷钳合剂为至少一种选自于1,2-丙烷二胺四亚甲基磷酸、二伸乙三胺五亚甲基磷酸及伸乙二胺肆亚甲基磷酸之化合物。12.如申请专利范围第1或2项之水性光阻剥离组成物,其中该水溶性氟化合物为至少一种选自于氟化铵、酸铵氟盐、单乙醇胺氟盐及四甲基铵氟盐之化合物。13.如申请专利范围第1或2项之水性光阻剥离组成物,其中该水溶性氟化合物为氟化铵。14.如申请专利范围第2项之水性光阻剥离组成物,其中该有机溶剂为至少一种选自于乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丁醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇单丁醚、二乙二醇二甲醚、二丙二醇二甲醚、甲醯胺、单甲基甲醯胺、二甲基甲醯胺、单乙基甲醯胺、二乙基甲醯胺、单乙基乙醯胺、二甲基乙醯胺、单乙基乙醯胺、二乙基乙醯胺、N-甲基咯啶酮、N-乙基咯啶酮、二甲基亚、二甲、二乙、贰(2-羟基)与四亚甲之溶剂。15.如申请专利范围第2项之水性光阻剥离组成物,其中该有机溶剂为至少一种选自于二甲基亚、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基咯啶酮、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二丙二醇单甲醚与二丙二醇单丁醚之溶剂。16.一种剥离光阻膜及光阻残渣之方法,其包括步骤:在无机基质上形成光阻膜;将光阻膜图案化以形成图案化光阻膜;乾蚀刻图案化光阻膜底下之膜,同时使用图案化光阻膜作为光罩以去除底下膜之非遮蔽区域;及藉由使如申请专利范围第1至15项中任一项之水性光阻剥离组成物接触光阻残渣及/或图案化光阻膜,去除在乾蚀刻时形成之光阻残渣及/或在乾蚀刻后残留之图案化光阻膜。17.一种剥离光阻膜及光阻残渣之方法,其包括步骤:在无机基质上形成光阻膜;将光阻膜图案化以形成图案化光阻膜;乾蚀刻图案化光阻膜底下之膜,同时使用图案化光阻膜作为光罩以去除底下膜之非遮蔽区域;将图案化光阻膜灰化;及藉由使如申请专利范围第1至15项中任一项之水性光阻剥离组成物接触光阻残渣,去除在乾蚀刻时形成之光阻残渣。图式简单说明:第1图为使用图案化光阻膜作为光罩之乾蚀刻后之氧-电浆灰化后之电路装置之示意剖视图。 |
