发明名称 |
在接触设备中的气液分布 |
摘要 |
本发明涉及一种含有由许多不同取向的填料层(11-17)构成的规整填料(8)的接触设备(1),其中穿过填料层(11-17)的流体通道(18)分别具有确定的方向,所述填料(8)放置在位于接触设备下部(2)的入口(3)和位于其设备上部(5)的出口(4),以及位于设备上部(5)的入口(6)和位于其设备下部(2)的出口(7)之间,其中,入口(3)用于引导气流向上流动,出口(4)用于排放处理过的气流,入口(6)用于引导液流向下流动,出口(7)用于排放处理过的液流。本发明的重要特征在于所述的气流的入口(3)与规整填料(8)的下界面(10)基本上在同一水平上展开。 |
申请公布号 |
CN1398199A |
申请公布日期 |
2003.02.19 |
申请号 |
CN99817050.X |
申请日期 |
1999.12.21 |
申请人 |
ABB.弗拉克特有限公司 |
发明人 |
L·卡尔丁;O·E·比尔诺 |
分类号 |
B01J10/02;B01J19/32;B01D3/00;B01D3/28;B01D3/32;B01D47/14 |
主分类号 |
B01J10/02 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
黄力行 |
主权项 |
1.一种接触设备(1),含有由许多不同取向的填料层(11-17)构成的规整填料(8),其中穿过填料层(11-17)的流体通道(18)分别具有确定的方向,所述规整填料(8)放置在位于接触设备下部(2)的入口(3)和位于其设备上部(5)的出口(4)、以及位于设备上部(5)的入口(6)和位于其设备下部(2)的出口(7)之间,其中,入口(3)用于引导气流向上流动,出口(4)用于排放处理过的气流,入口(6)用于引导液流向下流动,出口(7)用于排放处理过的液流,其特征在于所述的气流入口(3)的上边缘(9)与规整填料(8)的下界面(10)基本上在同一水平上展开。 |
地址 |
瑞典斯德哥尔摩 |