发明名称 聚焦控制装置及使用该控制装置的原盘曝光装置
摘要 一种聚焦系统,该系统使平行光束和不平行光束通过一可移动透镜聚焦在物体上,包括:一负反馈回路,该回路包括一检测器,该检测器接收上述非平行光束的反射光,该反射光是这样得到的:上述平行光先穿过上述可移动物镜,并被上述物体反射,再穿过上述可移动物镜,因此该检测器产生与上述非平行光束的焦点偏离相对应的检测信号和驱动器,该驱动器接收上述检测信号,并根据上述检测信号控制上述可移动物镜的位置,以便于上述检测信号消失;和校正信号发生器,该发生器产生校正信号并将该信号供给到负反馈回路作为上述回路的干扰,以便于上述平行光束聚焦在上述物体上。
申请公布号 CN1397939A 申请公布日期 2003.02.19
申请号 CN02125179.7 申请日期 2002.02.28
申请人 株式会社日立制作所 发明人 柳雅士;木村信夫;安藤哲生;中元英和
分类号 G11B7/09;G11B7/26 主分类号 G11B7/09
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 王以平
主权项 1.一种聚焦系统,该系统使平行光束和非平行光束通过一可移动物镜聚焦在物体上,它包括:一负反馈回路,该回路包括一检测器和一驱动器,该检测器用于接收如下反射光,即上述非平行光透过上述可移动物镜、并被上述物体反射、再透过上述可移动物镜的反射光,并用于产生与上述非平行光束的焦点偏离相对应的检测信号;该驱动器用于接收上述检测信号,并根据上述检测信号控制上述可移动物镜的位置,以便于上述检测信号减少;和校正信号产生器,用于产生校正信号并将该信号供给到负反馈回路作为上述回路的干扰,以便于上述平行光束聚焦在上述物体上。
地址 日本东京