发明名称 硅氧烷低聚物及其制造方法和应用
摘要 本发明涉及具有通式I、II的硅氧烷低聚物,其中每个低聚物分子中至少存在一个官能化烷基。这种硅氧烷低聚物是通过卤代烷基三卤代硅氧烷在醇和水的存在下低聚制备的,或通过与(C<SUB>1</SUB>~C<SUB>18</SUB>)烷基、苯基、芳基或芳烷基三卤代硅烷和/或四氯化硅低共聚制得的,卤代烷基官能也可以任选进一步改性。硅氧烷低聚物可应用于胶料中作为偶联剂或用作建筑防腐剂。
申请公布号 CN1396195A 申请公布日期 2003.02.12
申请号 CN02140516.6 申请日期 2002.07.05
申请人 德古萨股份公司 发明人 罗兰·克拉夫奇克;比约恩·特雷夫艾森;雅罗斯瓦夫·蒙凯维奇
分类号 C08G77/48;C08L83/14;C08K3/34 主分类号 C08G77/48
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 过晓东
主权项 1、具有通式I、II的硅氧烷低聚物,<img file="A0214051600021.GIF" wi="1798" he="625" />式中x表示从0~1000的整数,y表示从0~1000的数,取代基R相同或不同,为官能化烷基、(C<sub>1</sub>~C<sub>18</sub>)烷基、(C<sub>1</sub>~C<sub>4</sub>)烷氧基、(C<sub>1</sub>~C<sub>4</sub>)卤代烷氧基、苯基、芳基、芳烷基或羟基,其特征在于每个低聚物分子中至少存在一个官能化烷基。
地址 联邦德国杜塞尔多夫市