发明名称 | 图案形成方法及使用该方法制备液晶显示器的方法 | ||
摘要 | 将有机薄膜被覆在绝缘基片上,并使有机溶剂渗透进入该有机薄膜中,引起有机薄膜溶解,以平坦化有机薄膜。之后,在100-180℃的温度下对该平坦化有机薄膜进行热处理,以蒸发包含在有机薄膜中的有机溶剂。在相对低的温度,即100-180℃下蒸发包含在有机薄膜中的有机溶剂,可降低有机薄膜被覆的布线层上的热应力,并提供绝缘基片表面的平坦度。 | ||
申请公布号 | CN1396487A | 申请公布日期 | 2003.02.12 |
申请号 | CN02141390.8 | 申请日期 | 2002.07.09 |
申请人 | 日本电气株式会社 | 发明人 | 城户秀作 |
分类号 | G02F1/136;G02F1/1343 | 主分类号 | G02F1/136 |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 柳春琦 |
主权项 | 1.一种平坦化有机薄膜的方法,包括如下步骤:在绝缘基片的表面形成有机薄膜;将有机溶剂渗透进入所述的有机薄膜中;和引起所述的有机薄膜溶解,以平坦化所述的有机薄膜。 | ||
地址 | 日本国东京都 |