发明名称 |
磁记录介质,磁记录介质的制造方法,以及磁记录装置 |
摘要 |
本发明的磁记录介质包括,在基板1上依次有MgO层2、第1控制层3、第2控制层4、磁性层5及保护层6。MgO层是采用ECR溅射法形成的,该层是六方晶系,在一定方位结晶定向。在MgO层上,采用与磁性层的晶格常数之差为5%以下的材料及组成,在MgO层上形成2层或以上的金属控制层。由于这些控制层的存在,反映MgO层结构的磁性层进行良好的外延生长,在磁性层中可以实现适于高密度记录的Co(11.0)。因此,提供一种可超过40Gbit/英寸<SUP>2</SUP>的超高密度记录的磁性记录介质。 |
申请公布号 |
CN1395726A |
申请公布日期 |
2003.02.05 |
申请号 |
CN01803727.5 |
申请日期 |
2001.01.12 |
申请人 |
日立麦克赛尔株式会社 |
发明人 |
桐野文良;稻叶信幸;若林康一郎;竹内辉明;水村哲夫;日永田晴美;小沼刚;神田哲典;松沼悟;曾谷朋子 |
分类号 |
G11B5/84;G11B5/65;G11B5/738;G11B5/02;C23C14/34 |
主分类号 |
G11B5/84 |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
范明娥;张平元 |
主权项 |
1.一种磁记录介质,其中包括:基板和;用于记录信息的磁性层和;位于上述基板和上述磁性层之间的结晶质基层;上述基层是通过共振吸收而产生等离子体,使产生的等离子体冲撞靶子,溅射出靶粒子,通过在上述基板和上述靶子之间施加偏电压,把溅射出的靶粒子一边诱导至上述基板上一边使其堆集而形成。 |
地址 |
日本大阪府 |