Reflective projection lens for EUV photolithography

摘要

Ein Projektionsobjektiv zur Abbildung eines in einer Objektebene angeordneten Musters in eine Bildebene mit Hilfe von elektromagnetischer Strahlung aus dem extremen Ultraviolettbereich (EUV) hat zwischen Objektebene und Bildebene mehrere mit Reflexbeschichtungen versehene, abbildende Spiegel, die eine optische Achse des Projektionsobjektiv definieren. Mindestens einer der Spiegel hat eine gradierte Reflexbeschichtung mit einem zu einer Beschichtungsachse rotationssymmetrischen Schichtdickenverlauf, wobei die Beschichtungsachse exzentrisch zur optischen Achse des Projektionsobjektiv angeordnet ist. Die Bereitstellung mindestens einer dezentrierten, gradierten Reflexbeschichtung ermöglicht die Konstruktion von Projektionsobjektiven, die bei hoher Gesamttransmission eine gute Gleichmäßigkeit der Feldausleuchtung erlauben. <IMAGE>