发明名称 Carrier head for chemical mechanical polishing a substrate
摘要 A carrier head for a chemical mechanical polishing apparatus includes a flexible membrane with a lip portion to engage a substrate to form a seal for improved vacuum-chucking.
申请公布号 US6514124(B1) 申请公布日期 2003.02.04
申请号 US20000693618 申请日期 2000.10.20
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 ZUNIGA STEVEN;CHEN HUNG;BIRANG MANOOCHER
分类号 B24B37/04;B24B41/06;H01L21/304;(IPC1-7):B24B1/00 主分类号 B24B37/04
代理机构 代理人
主权项
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