发明名称 |
METODO PARA LA APLICACION DE UN RECUBRIMIENTO LIBRE DE REBABAS, MEDIANTE HAZ DE ELECTRONES. |
摘要 |
Un método de aplicación de recubrimientos libres de rebabas por haz de electrones que comprende el calentamiento del lingote del material de recubrimiento por haz de electrones, su evaporación y siguiente deposición del ujo de vapor sobre el sustrato calentado al vacío, caracterizado porque se evapora dicho lingote y se deposita dicho ujo de vapor a la temperatura de deposición Tdep,la tasa dealimentación del lingote Ving y la tasa de deposición del ujo de vapor Vdep, que son seleccionadas dentro de la región tridimensional mostrada en la Fig. 1 con estas coordenadas de sus puntos de limitación de vértices.
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申请公布号 |
ES2180291(T3) |
申请公布日期 |
2003.02.01 |
申请号 |
ES19990914878T |
申请日期 |
1999.03.23 |
申请人 |
UNITED TECHNOLOGIES CORPORATION;INTERNATIONAL CENTER FOR ELECTRON BEAM TECHNOLOGIES OF E.O. PATON ELECTRIC WELDING INSTITUTE |
发明人 |
TOPAL, VALERY I.;BELYAVIN, ALEXANDR F.;BRATUS, VASILY JA. |
分类号 |
C23C14/16;C23C14/30;C23C14/54;(IPC1-7):C23C14/30 |
主分类号 |
C23C14/16 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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