发明名称 METODO PARA LA APLICACION DE UN RECUBRIMIENTO LIBRE DE REBABAS, MEDIANTE HAZ DE ELECTRONES.
摘要 Un método de aplicación de recubrimientos libres de rebabas por haz de electrones que comprende el calentamiento del lingote del material de recubrimiento por haz de electrones, su evaporación y siguiente deposición del ujo de vapor sobre el sustrato calentado al vacío, caracterizado porque se evapora dicho lingote y se deposita dicho ujo de vapor a la temperatura de deposición Tdep,la tasa dealimentación del lingote Ving y la tasa de deposición del ujo de vapor Vdep, que son seleccionadas dentro de la región tridimensional mostrada en la Fig. 1 con estas coordenadas de sus puntos de limitación de vértices.
申请公布号 ES2180291(T3) 申请公布日期 2003.02.01
申请号 ES19990914878T 申请日期 1999.03.23
申请人 UNITED TECHNOLOGIES CORPORATION;INTERNATIONAL CENTER FOR ELECTRON BEAM TECHNOLOGIES OF E.O. PATON ELECTRIC WELDING INSTITUTE 发明人 TOPAL, VALERY I.;BELYAVIN, ALEXANDR F.;BRATUS, VASILY JA.
分类号 C23C14/16;C23C14/30;C23C14/54;(IPC1-7):C23C14/30 主分类号 C23C14/16
代理机构 代理人
主权项
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