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TRANSISTOR BIPOLAR DE SILICIO SOBRE AISLANTE, QUE COMPRENDE UN SUSTRATO (1) CON UNA SUPERFICIE PRINCIPAL, UNA CAPA (2) DE OXIDO SOBRE DICHA SUPERFICIE PRINCIPAL, UNA CAPA (3) DE SILICIO, CON UN PRIMER VALOR DE CONDUCTIVIDAD, SOBRE LA CAPA DE OXIDO (2), UNA ZONA DE BASE (4), CON UN SEGUNDO VALOR DE CONDUCTIVIDAD, QUE SE EXTIENDE POR LA CAPA DE SILICIO (3), UNA ZONA DE EMISOR (5), CON EL PRIMER VALOR DE CONDUCTIVIDAD, QUE SE EXTIENDE POR LA ZONA DE BASE (4), UNA ZONA DE COLECTOR (6), CON EL PRIMER VALOR DE CONDUCTIVIDAD, QUE SE EXTIENDE POR LA CAPA DE SILICIO (3) A UNA DISTANCIA LATERAL DE LA ZONA DE BASE (4), UNA ZONA DE TERMINALES (8), CON EL SEGUNDO VALOR DE CONDUCTIVIDAD, QUE SE EXTIENDE POR LA CAPA DE SILICIO (3) HASTA UNA CAPA DE OXIDO (2) EN EL LADO OPUESTO DE LA ZONA DE EMISOR (5) RESPECTO A LA ZONA DE COLECTOR (6), UNA PARTE (8'') DE LA ZONA DE TERMINALES (8) QUE SE EXTIENDE LATERALMENTE A LO LARGO DE LA SUPERFICIE DE LA CAPA DE OXIDO (2), BAJO, AL MENOS, PARTE DE LA ZONA DE EMISOR (5), HACIA LA ZONA DE COLECTOR (6) A UNA DISTANCIA DE LA ZONA DE BASE (4), ESTANDO LA ZONA DE TERMINALES CONECTADA ELECTRICAMENTE A LA ZONA DE BASE (4).
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