发明名称 PROCEDIMIENTO Y APARATO PARA EL DEPOSITO ASISTIDO POR PLASMA SOBRE UN SUSTRATO DE DOS CARAS.
摘要 EL PROCEDIMIENTO SEGUN LA INVENCION ES DEL TIPO SEGUN EL CUAL, PARA LA DEPOSICION DE AL MENOS UNA CAPA DELGADA SOBRE UN SUSTRATO (10) DE DOBLE CARA (11A, 11B), SE EMPLEA UN PLASMA EN COOPERACION CON EL CUAL INTERVIENE UN FLUIDO PRECURSOR CUYOS PRODUCTOS DE REACCION CON EL PLASMA DAN LUGAR A LA DEPOSICION BUSCADA. SEGUN LA INVENCION, PARA UN TRATAMIENTO SIMULTANEO DE LAS DOS CARAS (11A, 11B) DEL SUSTRATO (10), SE EMPLEAN DOS PLASMAS DISTINTOS (12A, 12B), INTERVINIENDO UNO DEL LADO DE UNA DE LAS CARAS (11A, 11B) DE ESTE SUSTRATO (10), INTERVINIENDO EL OTRO DEL LADO DE LA OTRA CARA DE ESTAS. APLICACION, PARTICULARMENTE, EN EL TRATAMIENTO ANTIRREFLEJO DE UNA LENTILLA OFTALMICA DE MATERIAL ORGANICO.
申请公布号 ES2179936(T3) 申请公布日期 2003.02.01
申请号 ES19960905921T 申请日期 1996.03.06
申请人 ESSILOR INTERNATIONAL (COMPAGNIE GENERALE D'OPTIQUE) 发明人 BOSMANS, RICHARD;CHEAIB, MEHDI
分类号 C23C16/44;C23C16/452;C23C16/458;C23C16/50;C23C16/511;(IPC1-7):C23C16/50 主分类号 C23C16/44
代理机构 代理人
主权项
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