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发明名称 PHOTORESIST COMPOSITION
摘要 Disclosed are new photoresist compositions including polymeric particles as binder and a photoactive component. Also disclosed are methods of forming relief images using these photoresist compositions.
申请公布号 WO0223274(A3) 申请公布日期 2003.01.30
申请号 WO2001US28195 申请日期 2001.09.08
申请人 SHIPLEY COMPANY, L.L.C. 发明人 ZAMPINI, ANTHONY
分类号 G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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