发明名称 |
用于处理玻璃基片或晶片的注入装置 |
摘要 |
根据本发明的注入装置包括:注入部件,用于注入汽化的IPA和溶液蒸汽;供应部件,用于再生残留的液体或提供新的液体;发生器,用于蒸发IPA和溶液。注入部件具有:设置在其一端的注入孔,用于注入汽化的IPA和溶液蒸汽;和压力罐,具有形成在两侧端部的入口和出口导向件,用于使玻璃基片自由进出。供应部件具有蒸发单元和冷凝单元,用于通过泵传输压力罐出口导向件一侧残留的液体,并蒸发传输的液体。发生器具有设置在其中的加热器和供应单元,加热并提供IPA和溶液,由此将液体通过注入孔提供给玻璃基片。 |
申请公布号 |
CN1393910A |
申请公布日期 |
2003.01.29 |
申请号 |
CN01124801.7 |
申请日期 |
2001.06.29 |
申请人 |
株式会社D.M.S |
发明人 |
韩占烈 |
分类号 |
H01L21/302;H01L21/301;C03C19/00;B08B3/00 |
主分类号 |
H01L21/302 |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
肖鹂 |
主权项 |
1.一种注入装置,用于通过注入液体处理玻璃基片或晶片,包括:注入部件,用于注入作为液体的IPA蒸汽和溶液蒸汽;和供应部件,用于再生注入后残留的液体或提供新的液体,其中,借助当所述IPA蒸汽或所述溶液蒸汽被压缩并通过喷口注入时产生的动能及其表面张力,所述玻璃基片或所述晶片在液体中以浮动状态被干燥。 |
地址 |
韩国京畿道 |