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经营范围
发明名称
POLYMERS FOR PHOTORESIST COMPOSITIONS FOR MICROLITHOGRAPHY
摘要
申请公布号
EP1279069(A2)
申请公布日期
2003.01.29
申请号
EP20010933046
申请日期
2001.05.04
申请人
E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY
发明人
FRYD, MICHAEL;PERIYASAMY, MOOKKAN;SCHADT, FRANK, LEONARD, III
分类号
G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/038
主分类号
G03F7/004
代理机构
代理人
主权项
地址
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