发明名称 POLYMERS FOR PHOTORESIST COMPOSITIONS FOR MICROLITHOGRAPHY
摘要
申请公布号 EP1279069(A2) 申请公布日期 2003.01.29
申请号 EP20010933046 申请日期 2001.05.04
申请人 E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY 发明人 FRYD, MICHAEL;PERIYASAMY, MOOKKAN;SCHADT, FRANK, LEONARD, III
分类号 G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/038 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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