| 发明名称 | 一种用于去离子水质的缓蚀剂组合物 | ||
| 摘要 | 一种用于去离子水质的缓蚀剂组合物，以组合物总重为基准，包括：1)去离子水；2)浓度为1～50％的结构(I)所示的聚醚酰胺；3)浓度为1～50％的可溶性硅酸盐。本发明提供的用于去离子水质的缓蚀剂组合物，无毒，在低剂量下就具有极好的缓蚀性能。 | ||
| 申请公布号 | CN1393411A | 申请公布日期 | 2003.01.29 |
| 申请号 | CN01119812.5 | 申请日期 | 2001.06.29 |
| 申请人 | 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司石油化工科学研究院 | 发明人 | 王征;王秀;李本高 |
| 分类号 | C02F1/58;C02F1/68 | 主分类号 | C02F1/58 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 徐舒;庞立志 |
| 主权项 | 1.一种用于去离子水质的缓蚀剂组合物，以组合物总重为基准，包括：1)去离子水；2)浓度为1～50％的结构式(I)所示的聚醚酰胺；3)浓度为1～50％的可溶性硅酸盐；<img file="A0111981200021.GIF" wi="1243" he="232" />其中n为1～1O的整数或分数；R<sub>1</sub>选自H，CH<sub>3</sub>-，CH<sub>3</sub>-CH<sub>2</sub>-，HO-CH<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-和H<sub>2</sub>N-CH<sub>2</sub>-CH<sub>2</sub>-；R<sub>2</sub>为C<sub>7</sub>～C<sub>15</sub>的烷基；R<sub>3</sub>是H或<img file="A0111981200022.GIF" wi="245" he="77" />。 | ||
| 地址 | 100029北京市朝阳区惠新东街甲6号 | ||