发明名称 |
电路形成基板的制造方法、电路形成基板及电路形成基板用材料 |
摘要 |
本发明的电路形成基板的制造方法包含:将脱模性膜贴合于预浸片上的工序、在具有脱模性膜的预浸片上开设未贯通或贯通的孔的工序、在该孔中填充导电糊的工序、剥离脱模性膜的工序,及在预浸片上加热压接金属箔的工序。在该电路形成基板中,在预浸片的一面或两面形成平滑面,抑制导电糊渗进预浸片与脱模性膜的界面中。由此,防止布线电路间的短路,防止绝缘可靠性的降低,因此可实现成品率的提高及高品质、高可靠性的电路基板。 |
申请公布号 |
CN1394465A |
申请公布日期 |
2003.01.29 |
申请号 |
CN01803188.9 |
申请日期 |
2001.10.15 |
申请人 |
松下电器产业株式会社 |
发明人 |
山根茂;川本英司;菰田英明;铃木武;西井利浩;中村真治 |
分类号 |
H05K3/40;H05K1/03;H05K1/09;H05K1/11;H05K3/46;B32B5/00;B32B5/14;B32B15/08 |
主分类号 |
H05K3/40 |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
汪惠民 |
主权项 |
1.一种电路形成基板的制造方法,其特征在于,包含有下述工序,即:将脱模性膜贴合于预浸片上的工序;在具有前述脱模性膜的前述预浸片上开设未贯通或贯通的孔的工序;在前述孔中填充导电糊的工序;剥离前述脱模性膜的工序;及在前述预浸片上加热压接金属箔的工序;并且,在前述预浸片的表面形成平滑面。 |
地址 |
日本大阪府 |